半岛网页版,半岛(中国) HFCVD热丝化学气相沉积 设备 高性价比 生产厂家《台风快讯》


发布时间:

2024-07-09

金刚石是一种典型的多功能极限材料,在电学、光学、热学、力学声学和电化学方面具有优异性能,在众多高新技术领域具有广阔的应用前景。

  金刚石是一种典型的多功能极限材料,在电学、光学、热学、力学声学和电化学方面具有优异性能,在众多高新技术领域具有广阔的应用前景。
  20世纪80年代之后,化学气相沉积(CVD)技术制备金刚石涂层促进了其广泛的应用,引发了席卷全球的“金刚石热”。90年代后,随着金刚石涂层工业化制备技术的出现,金刚石涂层产业开萌生。金刚石涂层工具、金刚石热沉、金刚石光学窗口、金刚石膜基探测器及传感器和金刚石电极等一系列高技术附加值产品开始进入市场,极大地推动了精密加工、生物医学、电化学、传感与探测和半导体等领域的产业升级。
  21世纪初我国开始出现CVD金刚石产业,目前主要涵盖硬质合金基金刚石涂层工具和模具,工具级、热沉级和光学级金刚石自支撑膜,并呈现出良好的发展势头。并且,我国的金刚石涂层研究一直受到国家有高度关注。国家“863”计划和国家自然科学基金均持续资助过相关研究项目。在“八五”、“九五”、“十一五”期间均围绕金刚石涂层方面设立重大关键技术项目和关键材料专项,取得了重大成果。
  半岛网页版,半岛(中国)技术(深圳)有限公司(简称:半岛网页版,半岛(中国))自主研发的HFCVD热丝化学气相沉积设备可用于微米晶、纳米晶金刚石晶圆片生产,也可制造防腐耐磨硬质涂层、金刚石BDD电极、太阳能薄膜电池等。

  自主研发生产的单/双面镀膜热丝CVD金刚石设备(HFCVD)可制备金刚石多晶晶圆片衬底尺寸:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸。

金刚石薄膜生产线

 

6英寸金刚石散热晶圆片

  应用领域:第三代半导体、大功率激光器、10G通讯、微纳声学、功放器件、滤波器件等;可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。
  公司简介:
  半岛网页版,半岛(中国)技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于市场前沿、产业前沿和技术前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。
  公司核心业务是微纳材料(含半导体材料)、微纳制造工艺、微纳装备的研发设计和生产制造。
  科研型设备:PVD、CVD、MBE分子束外延等。
  工业生产型设备:大型蒸镀设备、多弧离子源镀膜设备、矩形磁控溅射镀膜设备、电子束蒸发设备、OLED镀膜设备、HFCVD热丝化学气相沉积设备、真空高温CVD炉、六英寸MBE生产设备。
  公司技术和产品可以广泛应用于:新材料、新能源、微电子光电子、半导体、声学、光学、微机电系统(MEMS);传感器、生物医学、精准医疗、大健康、环保、微纳机器人、表面技术等领域。
  公司核心研发团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队,还有来自工业界的高级装备设计师团队。公司团队具有20多年的微纳材料与器件研究(含半导体材料)、PVD/CVD沉积技术研究、外延技术研究、薄膜制备成套装备设计和生产制造的经验。

 

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全国第三代半导体大会在苏州纳米城开幕

2024 年 10 月 22 日,由今日半导体主办的 2024 全国第三代半导体大会在苏州纳米城隆重开幕。此次大会吸引了众多行业精英和企业代表,现场气氛热烈,盛况空前。作为行业领军者的半岛网页版,半岛(中国)也携PVD镀膜设备、HFCVD 热丝化学气相沉积设备、分子束外延MBE、等离子体增强化学气相沉积 PECVD设备及解决方案亮相本次大会,吸引了来自全国各地业内人士及行业专家的目光,成为会议的一大亮点。

半岛网页版,半岛(中国)亮相武汉第五届中国新材料产业发展大会

在金秋十月的武汉,一场汇聚全国乃至全球新材料领域顶尖智慧的盛会——第五届中国新材料产业发展大会即将拉开帷幕。此次大会于2024年10月16日至18日在湖北省武汉市经开区中国车谷国际体育文化交流中心隆重举行,由中国材料研究学会主办,吸引了众多新材料产业界的佼佼者参与。其中,半岛网页版,半岛(中国)技术(深圳)有限公司(简称“半岛网页版,半岛(中国)”)作为行业内的佼佼者,将亮相大会,展示其在半导体领域的最新成果与技术创新。

等离子镀膜仪的特点与功能优势

等离子镀膜仪是一种表面处理装备,具有广泛的应用领域和重要的功能优势。它主要用于表面涂覆和改性处理。通过将材料暴露在等离子体环境中,利用离子轰击和反应沉积的机制,可实现对材料表面的改性和涂覆。这项技术在各个行业都有广泛的应用,例如电子、光电、医疗、汽车等领域。

磁控溅射镀膜仪的用途与注意事项

磁控溅射镀膜仪(PVD镀膜设备)是一种常见的表面镀膜设备,是在真空条件下利用蒸发或溅射在基体表面沉积薄膜的技术,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等,适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜,可镀制磁性材料和非磁性材料。广泛应用于电子、光电、光学、医疗等行业。为了确保其正常使用并获得良好的镀膜效果,以下是使用磁控溅射镀膜仪时需要注意的一些细节和技巧。

热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石涂层设备厂家《地震资讯》

金刚石作为超宽带隙半导体材料,具有高载流子迁移率、高热导率、高击穿电场、高载流子饱和速率和低介电常数等优异物理特性,被认为是制备下一代高功率、高频、高温及低功率损耗电子器件的“终极半导体”。