真空溅射镀膜的复兴与发展

所谓溅射就是用荷能粒子(通常用惰性气体的正离子)去轰击固体(以下称靶材)表面，从而引起靶材表面上的原子(或分子)从其中逸出的一种现象。这一现象是格洛夫(Grove)于1842年在实验研究阴极腐蚀问题时，阴极材料被迁移到真空管壁上而发现的。利用这种溅射方法在基体上沉积薄膜是1877年问世的。但是，利用这种方法沂积薄膜的初期存在着溅射速率低，成膜速度慢，并且必须在装置上设置高压和通人惰性气体等一系列问题。因此，发展缓慢险些被淘汰。只是在化学活性强的贵金属难熔金属、介质以及化合物等材料上得到了少量的应用。

离子镀膜设备的工作是什么原理

离子镀膜设备起源于20世纪50年代D.M.Maiox提出的理论，且在当时开始有了对应的实验;直到1971年，Chamber等发表电子束离子镀膜技术;而反应蒸镀(ARE)技术则是在1972年的Bunshah报告所指出，此时产生了TC及TN等超硬质的薄膜类型;同样是在1972年，Smith和Moley在镀膜工艺中采用了空心阴极技术。到了20世纪80年代，我国离子镀终于达到工业应用的水准，相继出现了真空多弧离子镀及电弧放电型离子镀等镀膜工艺。